DOI: 10.1051/jp3:1997228
J. Phys. III France 7 (1997) 1869-1876

Optical Diagnostics of RF Argon and Xenon Magnetron Discharges

M.F. Dony¹, F. Debal¹, M. Wautelet¹, J.P. Dauchot¹, M. Hecq¹, J. Bretagne², P. Leray² and A. Ricard<sup>3

1</sup>  Laboratoire de Chimie Inorganique et Analytique Université de Mons Hainaut, 23 avenue Maistriau, 7000 Mons, Belgium
²  Laboratoire de Physique des Gaz et Plasmas, Bâtiment 212, Université Paris-Sud-CNRS, 91405 Orsay, France
³  CPAT-Université Paul Sabatier, 118 route de Narbonne, 31062 Toulouse, France

(Received 29 January 1997, revised 21 May 1997, accepted 27 May 1997))

Abstract
A comparison of magnetron discharges in Ar and Xe gases with Al and BN targets has shown that a similar electron kinetic is producing about the same quantity of Ar and Xe metastable atoms:  cm ^-3 at gas pressures of 25 and 100 mTorr and RF powers, W, from 5 to 50 watts. The electron density is varying as in the two gases. The sputtering yields of Al and BN targets are lower in Xe than in Ar, by factors of 1.1-1.2 for Al and of 3 for BN.

Résumé
La comparaison de décharges magnétrons dans des gaz d'argon et de xénon, avec des cibles en Al et BN indique que des quantités équivalentes d'argon et de xénon métastables sont produites, à savoir  cm ^-3 à des pressions de 25 et 100 mTorr et des puissances RF, W, de 5 à 50 watts. La densité électronique varie comme dans les deux cas. Les taux de pulvérisation de cibles d'Al et de BN sont plus faibles dans le Xe que dans l'Ar, d'un facteur 1, 1- 1, 2 pour Al et 3 pour BN.

© Les Editions de Physique 1997