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Article cité :

Détermination des contraintes résiduelles et de la microstructure intra-granulaire dans des films minces de W déposés par pulvérisation magnétron

V. Branger, N. Durand, A.M. Haghiri-Gosnet, K.F. Badawi, M.F. Ravet

J. Phys. III France, 7 6 (1997) 1247-1260

DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1997186

Citations de cet article :

X-ray diffraction study of residual stresses and microstructure in tungsten thin films sputter deposited on polyimide

P. Villain, P. Goudeau, J. Ligot, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 21 (4) 967 (2003)
https://doi.org/10.1116/1.1578655

Characterization and modeling of electrical resistivity of sputtered tungsten films

J. Ligot, S. Benayoun and J. J. Hantzpergue
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 19 (3) 798 (2001)
https://doi.org/10.1116/1.1355759