Evaluation de l'influence d'un procédé LOCOS sur la génération interfaciale des transistors NMOS R. Jérisian, J. Oualid, J. Dugas et J. M. MirabelJ. Phys. III France, 1 7 (1991) 1311-1321DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1991191
