Mechanisms and rate determining steps in plasma induced high rate CVD of silicon an germanium: similarities and differences S. Vepřek, M.G.J. Vepřek-heijman, O. Ambacher, M. Rückschloss, F. Glatz et R. KonwitschnyJ. Phys. III France, 2 8 (1992) 1431-1438DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1992187
