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Spatially resolved atomic excitation temperatures in CH4/H2and C3H8/H2RF discharges by optical emission spectroscopy

A Chingsungnoen, J I B Wilson, V Amornkitbamrung, C Thomas and T Burinprakhon
Plasma Sources Science and Technology 16 (3) 434 (2007)
https://doi.org/10.1088/0963-0252/16/3/002

Plasma processes in methane discharges during r.f. plasma-assisted chemical vapour deposition of a-C:H thin films

E.H.A. Dekempeneer, J. Smeets, J. Meneve, L. Eersels and R. Jacobs
Thin Solid Films 241 (1-2) 269 (1994)
https://doi.org/10.1016/0040-6090(94)90439-1