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Article cité :

Photoresist Development Model for Linewidth Control in the Fabrication of MCM and Customised ASICs

E. Saint-Christophe, H. Fremont, M. Fathi, Y. Danto

J. Phys. III France, 6 11 (1996) 1507-1526

DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1996199

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Références

Citations de cet article :

Applications of a theoretical model for line width control in photoresists sensitised by a laser beam

E. Saint Christophe, H. Frémont, G. N'kaoua and Y. Danto
Electronics Letters 33 (12) 1049 (1997)
https://doi.org/10.1049/el:19970738