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Citations de cet article :

Properties of BC x N y films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition from N-trimethylborazine-nitrogen mixtures

V. S. Sulyaeva, M. L. Kosinova, Yu. M. Rumyantsev, et al.
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DOI: 10.1134/S0020168510050092
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The growth of hexagonal boron nitride thin films on silicon using single source precursor

C Rohr, J.-H Boo and W Ho
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DOI: 10.1016/S0040-6090(97)01007-9
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Plasma enhanced chemical vapour deposition of BCxNy films prepared from N-trimethylborazine: Modelling, synthesis and characterization

V.S. Sulyaeva, Yu.M. Rumyantsev, M.L. Kosinova, et al.
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DOI: 10.1016/j.surfcoat.2007.04.016
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Boron carbonitride coatings synthesized by LPCVD, structure and properties

G. Puyoo, F. Teyssandier, R. Pailler, C. Labrugère and G. Chollon
Carbon 122 19 (2017)
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Low energy kinetic threshold in the growth of cubic boron nitride films

S. Kidner, C. A. Taylor and Roy Clarke
Applied Physics Letters 64 (14) 1859 (1994)
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Speciation of BC x N y films grown by PECVD with trimethylborazine precursor

Olaf Baake, Peter S. Hoffmann, Andreas Klein, et al.
Analytical and Bioanalytical Chemistry 395 (6) 1901 (2009)
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Optical and electrical characteristics of plasma enhanced chemical vapor deposition boron carbonitride thin films derived from N-trimethylborazine precursor

Veronica S. Sulyaeva, Marina L. Kosinova, Yurii M. Rumyantsev, et al.
Thin Solid Films 558 112 (2014)
DOI: 10.1016/j.tsf.2014.02.082
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