Journal de Physique III

Evaluation de l'influence d'un procédé LOCOS sur la génération interfaciale des transistors NMOS

R. Jérisian, J. Oualid, J. Dugas et J. M. Mirabel

J. Phys. III France, 1 7 (1991) 1311-1321

DOI: 10.1051/jp3:1991191

R. Jérisian

J. Oualid

J. Dugas

J. M. Mirabel

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