Journal de Physique III

Élimination du bore du silicium par plasma inductif sous champ électrique

R. Combes, D. Morvan, G. Picard et J. Amouroux

J. Phys. III France, 3 5 (1993) 921-943

DOI: 10.1051/jp3:1993173

R. Combes

D. Morvan

G. Picard

J. Amouroux

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