Etude par microanalyse ionique de films de poly(paraphénylène) et des phénomènes induits par implantation ionique

(Reçu le 23 décembre 1991, révisé le 13 avril 1992, accepté le 12 mai 1992)

Abstract
The study by SIMS of polyparaphenylene films has allowed us to show the presence of nitrogen and oxygen atoms ; with ¹⁵N and ¹⁸O preliminary implantation we have determined nitrogen and oxygen atomic concentrations which are respectively inferior to 1 % and about 4 %. These atomic impureties are located behind the implanted layer in a defect zone whose importance increases with implantation parameters.

Résumé
L'étude par microanalyse ionique de films de polyparaphénylène nous a permis de mettre en évidence la présence d'atomes d'azote et d'oxygène ; à partir de l'implantation préliminaire d'isotopes ¹⁵N et ¹⁸O nous avons pu évaluer les concentrations atomiques en azote et oxygène qui sont respectivement inférieures à 1 % et de l'ordre de 4 %. Ces atomes d'impuretés sont localisés dans une zone de défauts, située à l'arrière de la couche implantée et dont l'importance croît avec la valeur des paramètres d'implantation.