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J. Phys. III France
Volume 4, Numéro 10, October 1994
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Page(s) | 1971 - 1979 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp3:1994251 |
J. Phys. III France 4 (1994) 1971-1979
Etude de la répartition sur le substrat de particules de poudre injectées par un fluide porteur dans le procédé de dépôt par faisceau laser
Enyang RenGroupe d'Etudes Appliquées au Laser, Institut de Technologie de Kunming, Kunming, Yunnan, Chine
(Reçu le 3 février 1994, accepté le 28 juin 1994)
Abstract
In laser surface application, one of the routes is to spurt the gas-carrying the metal or ceramic powder from the laser outlet
after being melted to the coating layer on the surface of the substrate. The distribution of spurted powder particles have
a great influence on the quality of laser application. This paper discusses theoretically the movement of the carried powder
material after being spurted from the outlet and the distribution form of the powder coating on the surface of the substrate
achieved near spraying nozzle. This corresponds to the results of the experiment. This is of great theoric significance to
the improvement of the laser surface application and also provides references to the improvement of the distribution form
of powder coating in experimentation.
Résumé
Parmi les nombreuses techniques de dépôts superficiels à l'aide de faisceau laser, l'une d'entre elles consiste à utiliser
un gaz comme vecteur de transport de la poudre céramique ou métallique, l'axe du flux d'injection étant coaxial à celui du
laser. Après fusion sous l'impact du faisceau laser, la poudre forme un dépôt sur le substrat. En conséquence, la qualité
de celui-ci est fortement affectée par la répartition des particules au moment de l'injection sur le substrat. L'étude présentée
dans cet article a pour objet de déterminer la trajectoire des particules de poudre injectées et d'en déterminer la courbe
de répartition au voisinage de la buse d'injection. Ce travail théorique expose les données permettant d'améliorer la qualité
des dépôts. De plus, il propose des critères opératoires permettant de modifier la distribution des particules de poudre sur
le substrat.
© Les Editions de Physique 1994