Journal de Physique III

Détermination des épaisseurs de films très minces de SiO₂ sur silicium par microscopie électronique en transmission, ellipsométrie spectroscopique et spectroscopie de photoélectrons

R. Saoudi, G. Hollinger, A. Gagnaire, P. Ferret et M. Pitaval

J. Phys. III France, 3 7 (1993) 1479-1488

DOI: 10.1051/jp3:1993212

R. Saoudi

G. Hollinger

A. Gagnaire

P. Ferret

M. Pitaval

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