Design and manufacture of sputtered multilayers for applications to soft X-ray optics

(Received 19 November 1993, revised 11 March 1994, accepted 16 March 1994)

Abstract
Nanometer scale multilayers has been deposited using high vacuum diode rf sputtering chamber equipped with in situ kinetic ellipsometers. The influence of the composition, the roughness, the interface layer and the number of periods have been studied in order to optimize the stacks for soft X-ray reflection. The behaviour of the structures under thermal annealing has been observed. At last, gratings have been successfully manufactured.

Résumé
Des muticouches nanométriques ont été déposées par pulvérisation diode rf ultravide dans une chambre équipée d'ellipsomètres in situ. L'influence de la composition, de la rugosité, de la présence d'une couche d'interface et du nombre de périodes a été estimée afin d'optimiser les empilements pour la réflexion de rayons X mous. Le comportement de ces structures sous recuit thermique a été observé. Enfin des réseaux ont été réalisés avec succès.