Numéro
J. Phys. III France
Volume 1, Numéro 9, September 1991
Page(s) 1557 - 1561
DOI https://doi.org/10.1051/jp3:1991210
DOI: 10.1051/jp3:1991210
J. Phys. III France 1 (1991) 1557-1561

Axial temperature profile of plasma columns sustained by surface microwaves

Liane M. Mählmann, A. R. de Souza and A. Lago

Laboratôrio de Ôptica Quântica, Departamento de Fisica, Universidade Federal de Santa Catarina, 88049 Florianôpolis, SC, Brazil

(Received 29 May 1990, revised and accepted 27 May 1991)

Abstract
The axial profile of the gas temperature along a N 2 plasma column excited with surface propagating microwaves is measured by spectroscopy of the rotational emission lines from the N $_2(C,\, v = 0)$ states. At 60 W of microwave input power, the gas temperature is in the range 900 K-1 300 K along the plasma column. Addition of He cools the gas temperature down to 750 K, at the same input power.

Résumé
Le profil axial de la température du gaz d'une colonne de plasma de N 2 excitée par une onde de surface est mesurée par spectroscopie d'émission de raies rotationnelles (tête de bande 337.1 nm) de la transition N $_2(C,\, v = 0) \rightarrow {\rm N}_2(B,\, v = 0 )$. La température varie de 900 K à 1 300 K le long de la colonne de plasma et diminue au fur et à mesure qu'augmente la concentration d'He. L'addition d'He, refroidie la décharge jusqu'à 750 K pour la même puissance fournie.



© Les Editions de Physique 1991