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J. Phys. III France
Volume 2, Numéro 3, March 1992
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| Page(s) | 383 - 394 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp3:1992136 | |
J. Phys. III France 2 (1992) 383-394
Caractérisation électrique et optique de couches minces de WO
et MoO
préparées par décomposition en phase vapeur (CVD)
M. Regragui and A. Donnadieu Laboratoire d'Electro-optique des Couches Minces, Université de Montpellier II, Sciences et Techniques du Languedoc, Place Eugène Bataillon, 34095 Montpellier Cedex 5, France
(Reçu le 16 juillet 1991, accepté le 12 novembre 1991)
Abstract
The variations of electrical conductivity and optical dispersion parameters, developed by Wemple and Didomenico, of WO
3 and MoO
3 thin films prepared by chemical vapour deposition (CVD) are studied. The influence of oxidation modes and thickness is exhibited
and analysed in connexion with the film morphology.
Résumé
Les variations de la conductivité électrique et des paramètres optiques de dispersion, définis par Wemple et Didomenico, de
couches minces de Wo
3 et MoO
3, préparées par décomposition chimique en phase vapeur, ont été étudiées. L'influence des modes d'oxydation et de l'épaisseur
est mise en évidence et analysée en liaison avec la morphologie des couches.
© Les Editions de Physique 1992