Nitrure d'aluminium de différentes morphologies obtenu à basse température par PACVD

(Reçu le 25 mai 1992, révisé le 3 novembre 1992, accepté le 10 novembre 1992)

Abstract
The metal-organic chemical vapor deposition process assisted by a reactive plasma leads to crystalline AlN coatings with a preferential orientation (10 0). The crystallite size strongly depends on the plasma frequency and is independent of substrate materials. The coatings have been characterized by X-ray diffraction, infrared and Auger spectroscopies. The AIN/Si interphase has been studied by transmission electron microscopy.

Résumé
Le dépôt chimique en phase vapeur d'organo-métalliques assisté d'un plasma réactif conduit à des revêtements cristallins de nitrure d'aluminium ayant une orientation préférentielle (10 0) marquée. La dimension des cristallites dépend de la fréquence d'excitation plasma et est indépendante de la nature du substrat. Les revêtements, caractérisés par diffraction des rayons X, spectroscopies infrarouge et des électrons Auger, montrent une composition AlN. L'interphase AIN/Si a fait l'objet d'une étude particulière par microscopie électronique à transmission.