Misfit accommodation and dislocations in heteroepitaxial semiconductor layers: II-VI compounds on GaAs

(Received 17 September 1992, accepted 17 March 1993)

Abstract
We suggest a model for the nucleation and expansion of dislocations which accommodate the parameter misfit of an epitaxial layer on a substrate, applied, in this work, to a II-VI compound on GaAs. We examine in particular the dislocations threading through the layer, which must be kept as low as possible in density.

Résumé
Nous proposons un mécanisme de germination et de développement des dislocations permettant de compenser l'écart de paramètres d'une couche épitaxiée sur un substrat, par exemple dans notre cas, un composé II-VI sur GaAs. On porte une attention particulière aux dislocations résiduelles dans la couche dont on cherche à minimiser la densité.