Croissance des couches minces et des multicouches de matériaux supraconducteurs H T : bilan et perspective

(Reçu le 3 février 1994, accepté le 6 avril 1994)

Abstract
The main physical and chemical techniques of epitaxial growth of High T_c superconductor thin films are described together with their in situ analysis facilities and discussed with respect to their cost, sophistication and results ( T_c, J_c growth defects, thickness and composition uniformity, crystallinity, electronic applications...). The future trends of the growth machines are then examined in connection with the present results and the development of superconductor electronics.

Résumé
Après la présentation des principales techniques de croissance physique et physicochimique de couches minces d'oxydes supraconducteurs à haute température critique, un bilan des résultats sera dressé par rapport aux différentes propriétés des films (transition résistive, courant critique, défauts de croissance, uniformité d'épaisseur et de composition, cristallinité...), aux difficultés de mise en oeuvre et au coût de l'expérience. Les perspectives des différentes techniques seront ensuite examinées dans le cadre du développement potentiel d'une électronique utilisant les matériaux supraconducteurs H T_c.