Matériaux céramiques déposés en couches minces par plasma CVD

B. Cros; E. Gat; J. Durand; L. Cot

doi:doi:10.1051/jp3:1993159

Numéro		J. Phys. III France Volume 3, Numéro 4, April 1993


Page(s)		729 - 744
DOI		https://doi.org/10.1051/jp3:1993159

DOI: 10.1051/jp3:1993159
J. Phys. III France 3 (1993) 729-744

Matériaux céramiques déposés en couches minces par plasma CVD

B. Cros, E. Gat, J. Durand and L. Cot

Laboratoire de Physicochimie des Matériaux, U.R.A. 1312 CNRS, ENSCM, 8 rue de l'Ecole Normale, 34053 Montpellier Cedex 1, France

(Reçu le 25 mai 1992, révisé le 22 septembre 1992, accepté le 16 octobre 1992)

Abstract
Ceramic coatings are deposited by the PECVD technique. The required mechanical, electrical, optical, adherence on the substrate, surface (wettability) features are achieved owing to the construction of multilayers with steep interfaces or interphases with gradients of composition. A wide variety of applications are given.

Résumé
La technique de dépôt par PECVD permet d'obtenir des revêtements céramiques dont les caractéristiques mécaniques, électriques, optiques, les propriétés d'adhérence avec le substrat et les propriétés de surface (mouillabilité) sont optimisées grâce à la réalisation de multicouches abruptes ou d'interphases à gradient de composition. Des exemples d'applications sont donnés dans des domaines très divers.