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J. Phys. III France
Volume 4, Number 5, May 1994
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Page(s) | 867 - 880 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp3:1994171 |
J. Phys. III France 4 (1994) 867-880
Etude des interdiffusions en phase solide dans le contact Er/GaAs
S. Députier1, 2, A. Guivarc'h1, J. Caulet1, M. Minier1 and R. Guérin21 FRANCE TELECOM, Centre National d'Etudes des Télécommunications (LAB), B.P. 40, 22301 Lannion Cedex, France
2 Laboratoire de Chimie du Solide et Inorganique Moléculaire, UA CNRS 1495, Université de Rennes I, Avenue du Général Leclerc, 35042 Rennes Cedex, France
(Received 10 November 1993, revised 18 January 1994, accepted 25 January 1994)
Abstract
Solid state interdiffusions between a thin film of erbium deposited under
vacuum conditions and (001) and (111) GaAs substrates were investigated in
the temperature range 350-800
C. Complementary analysis methods
(RBS, X-ray diffraction) allow us to point out, according to annealing
temperatures, successives steps of the interaction corresponding to different
mixtures of phases, essentially binaries. These steps are strongly depending
on the GaAs substrate orientation, especially the final step of the
interdiffusions. On (001) GaAs, only two steps have been observed :
no visible interaction is noticed between erbium and GaAs before
600
C ; the interaction begins at 600
C, evolves
slightly and leads at 800
C to the nominal composition
" Er
10GaAs " which corresponds to a mixture of several phases
Er
5Ga
3, Er and ErAs. On (111) GaAs, several steps of interaction
have been found ; first of all, erbium reacts with the substrate at
400
C (Er
5Ga
3 + Er mixture), then the reaction is
continuing at 600
C (Er
5Ga
3 + Er + ErAs mixture)
before reaching at 800
C the nominal composition
" Er
1,5GaAs ", which is in fact a mixture of the three binaries
ErAs + ErGa
2 + Er
3Ga
5. It can be noticed that the 800
C
annealing is not sufficient to reach the mixture of the phases ErAs + Ga
which, according to the ternary phase diagram, should be the final stage
of the interaction Er/GaAs. The analysis of the Er/GaAs interdiffusions
shows that ErAs is the " key " compound around which the interaction
progresses. This compound appears as an ideal candidate to realize
epitaxial ErAs/GaAs heterostructures.
Résumé
Les interdiffusions en phase solide entre une couche mince d'erbium
déposée dans des conditions d'ultra-vide et des substrats de GaAs
orientés (001) et (111) ont été étudiées après des traitements
thermiques d'une heure entre 350 et 800
C. L'utilisation
de techniques complémentaires d'analyse (RBS, diffraction X) a
permis de mettre en évidence, en fonction de la température de
recuit, plusieurs étapes successives d'interaction correspondant
à des mélanges de phases, essentiellement des binaires. Elles
dépendent fortement de l'orientation du substrat de GaAs, en
particulier l'étape finale des interactions. Sur GaAs (001),
seules deux étapes ont été observées : avant 600
C,
il n'y a pas d'interaction visible de l'erbium avec le substrat ;
celle-ci ne s'amorce qu'à 600
C pour n'évoluer ensuite
que faiblement et conduire, à 800
C, à une composition
nominale " Er
10GaAs ", mélange des phases Er
5Ga
3 + Er + ErAs.
Sur GaAs (111), plusieurs étapes d'interaction sont observées :
l'erbium réagit avec le substrat dès 400
C (mélange des
phases Er
5Ga
3 + Er), puis l'interaction se poursuit
à 600
C (mélange Er
5Ga
3 + Er + ErAs) avant
d'atteindre à 800
C la composition nominale " Er
1,5GaAs ",
constituée d'un mélange de grains des trois binaires
ErAs + ErGa
2 + Er
3Ga
5. Il faut noter que le recuit à
800
C n'est pas suffisant pour atteindre le mélange de phases
Ga + ErAs qui, selon le diagramme ternaire, devrait être le stade ultime
de l'interaction Er/GaAs. L'analyse des interdiffusions Er/GaAs montre
que ErAs est le composé " clé " autour duquel pivote l'interaction Er/GaAs.
Ce composé apparaît comme un candidat idéal pour la réalisation
d'hétérostructures épitaxiées ErAs/GaAs.
© Les Editions de Physique 1994