Gravure hélicon de l'InP en plasma HBr. Morphologie et caractérisation des défauts de surface p. 467 J. Etrillard, P. Ossart, G. Patriarche et J.M. Francou DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995140 RésuméPDF (584.0 KB)
Etude de l'effet de la température de dépôt ou de recuit sur la formation de l'interface Au/GaSb(100) par diffraction d'électrons lents et spectroscopies d'électrons Auger ou de pertes d'énergies p. 483 M. Rouanet, W. Oueini, M. Nouaoura, N. Bertru, J. Bonnet et L. Lassabatere DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995141 RésuméPDF (640.9 KB)Références
Determination of PHEMT's Microwave Noise Parameters Only by Means of the Small-Signal Equivalent Circuit and Experimental Comparisons p. 495 D. Gasquet, F. Barberousse, M. de Murcia, W. de Raedt et C. Claeys DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995142 RésuméPDF (543.3 KB)Références
LF Excess Noise of AlGaAs/GaAs and AlGaAs/InGaAs/GaAs HEMTs p. 509 N. Saysset, C. Maneux, N. Labat, A. Touboul, Y. Danto et J.M. Dumas DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995134 RésuméPDF (424.1 KB)Références
Analyse des bruits blancs optique et électrique d'une tête d'émission laser à réaction répartie en présence d'une réinjection optique p. 519 P. Signoret, B. Orsal, J.M. Peransin et R. Aladebra DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995143 RésuméPDF (889.6 KB)Références
Utilisation de lasers multi-electrodes en tant que mélangeur hyperfréquence p. 537 R. Hamelin, J.P. Vilcot, J.P. Gouy, D. Decoster, C. Carriere, B. Groussin et V. Cargemel DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995144 RésuméPDF (401.1 KB)Références
Some Observations of the lamellar Morphology in Isotactic Polypropylene Spherulites by SFM p. 547 G. Castelein, G. Coulon, M. Aboulfaraj, C. G'Sell et E. Lepleux DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995145 RésuméPDF (819.4 KB)Références
Etude physicochimique et structurale de nitrures et d'oxynitrures de silicium très minces formés par traitement thermique rapide p. 557 R. Saoudi, G. Hollinger, M. Pitaval et P. Molle DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995146 RésuméPDF (1.052 MB)Références
Determination of Low-Energy Ion Implantation Damage Parameters by an Ellipsometric Method p. 575 U. Müller-Jahreis, P. Thiele, M. Bouafia et A. Seghir DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995147 RésuméPDF (535.4 KB)Références
Optimisation des conditions de fonctionnement d'un pilote plasma de 25 kW pour la purification du silicium p. 585 J. Erin, D. Morvan et J. Amouroux DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995148 RésuméPDF (1.211 MB)Références
EXPHER (EXperimental PHysics ERror analysis): a Declaration Language and a Program Generator for the Treatment of Experimental Data p. 605 Philippe Weber et Daniel Taupin DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995149 RésuméPDF (990.2 KB)Références
Analyse des possibilités de fonctionnement en régime des désexcitation des moteurs à aimants permanents p. 623 Bernard Multon, Jean Lucidarme et Laurent Prévond DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995150 RésuméPDF (949.4 KB)Références
A Study on Scaling Symmetrical Condenser-Objective Lenses p. 641 A.S.A. Alamir DOI: https://doi.org/10.1051/jp3:1995151 RésuméPDF (168.4 KB)Références
